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제목    최상수 상무, 무역의 날 산자부장관 표창 수상   2004/03/19
피케이엘 부설연구소의 최상수 상무가 2003년 11월 30일 ‘제40회 무역의 날’을 맞아 산자부와 무역협회로부터 수입대체국산화 유공자로 선정되어 산업자원부 장관 표창을 받았습니다.
수입대체국산화유공자란 수입기계류, 부품・소재 등의 국산화를 위한 기술개발 및 이를 통한 수입 대체, 국내 생산기반 확충에 공로가 있다고 인정된 공로자를 말합니다.
물리학 박사인 최상수 상무는 1983년 한국전자통신연구원(ETRI)에서 리소그래피 및 포토마스크 기술을 연구하기 시작한 이래 20여년간 포토마스크 개발에 매진해왔습니다.
연구원 시절 다른 동료들이 하나둘 리소그래피 및 포토마스크 관련 연구를 포기하고 다른 분야로 이적해갈 때도 꾸준히 반투과형 위상변이 포토마스크 기술, 레빈슨 타입 위상변이 마스크 기술, X-선 마스크 기술 등을 개발하며 최상수 상무는 포토마스크 신업에 필요한 연구를 계속했습니다.
이후 2000년부터는 피케이엘에 몸담고 반투과형 위상변이마스크(PSM) 생산기술을 개발하기 시작해 2002년에는 130nm 위상반전 포토마스크를 개발했고 2003년에는 120nm 위상변이 포토마스크 기술을 개빌하여 현재 양산되고 있습니다.
반투과형 위상변이마스크는 180nm 이상급의 반도체를 제조할 때 사용되는 재료로 국내 고품질의 반도체 기술개발에 큰 도움이 되었습니다. 보통 하나의 반도체 칩을 개발하는데는 1~2년의 시간이 걸리고 개발에 사용되는 포토마스크 수량이 200여장에 달하므로 만약 마스크 1장이 하루 늦게 공급될 경우 개발기간은 200여일, 즉 8개월이 늦어지는 결과를 낳게 됩니다. 이런 개발기간을 단축시키지 않고서는 미국이나 일본과 경쟁 자체가 블가능한데 위상변이마스크와 같은 하이엔드 제품을 일본 등지에서 수입할 경우 납기에 한달 이상 소요되므로 반도체 칩 개발에 막대한 영향을 끼치지 않을 수 없습니다.
이와 같은 상황에서 피케이엘이 반투과형 위상변이마스크를 비롯해 고품질의 포토마스크를 국산기술로 개발해낸 것은 국내 반도체 칩 개발 및 반도체 설계회로 기술 보안에 큰 도움이  되었습니다.
피케이엘이 포토마스크를 개발, 양산하기 전까지는 제품의 전량을 일본에서 수입해 왔기에 피케이엘 매출은 그대로 수입대체 비용으로 간주됩니다. 그리고 위상변이마스크는 이와 같은 매출의 약 30%를 차지해 매우 큰 비중을 이루고 있어 명실상부 반도체 산업분야의 대표적인 수입대체상품이라고 할 수 있습니다.
최상수 상무는 2002년 9월에 반투과형 위상변이마스크 기술로 장영실상을 수상하기도 했습니다.
작 성 일 : 2004/03/19, 조 회 : 327        
  


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